光刻胶助粘剂
六甲基二硅氮烷作为光刻胶助粘剂，喷涂于硅片表面改性，使其由亲水变疏水，增强粘附力，抑制刻蚀液侵入，提高抗蚀性。此外，它还是提升固态电池性能的关键材料，能修饰界面、降低电阻、提高传导效率，增强稳定性，减少副反应，延长电池寿命。随着半导体光刻胶国产化加速，其作为助粘剂材料有望成为重要供应商，受益于全球半导体光刻胶市场的持续增长。
电子清洗剂
硅氮烷、硅氧烷化合物具有较高的化学稳定性和良好的电绝缘性能，这保证了清洗剂在清洗过程中不会引入新的杂质或污染物，能够保持电子元件的电气性能不受影响。同时，两者还具有良好的挥发性和优异的渗透性，能够深入电子元件的微小缝隙中清除油脂和灰尘，并在清洗后迅速挥发，不留下残留物。
六甲基二硅氮烷 六甲基二硅氧烷 四甲基二硅氧烷 四甲基二乙烯基二硅氮烷 八甲基三硅氧烷
电子润滑剂
硅氧烷及硅油化合物因其化学结构的高度稳定性，展现出低摩擦系数及卓越的润滑性能，因此适宜作为电子器件中的润滑剂，有效减轻机械部件间的摩擦与磨损。此外，这些化合物还具备较低的表面张力和优异的润湿性，能迅速且均匀地铺展于电子器件表面，形成一层均匀的润滑膜或绝缘层，进而提升器件的可靠性并延长其使用寿命。
六甲基二硅氮烷 八甲基三硅氧烷 十甲基四硅氧烷 甲基硅油 端羟基硅油
